Project title
前瞻技術產學合作計畫—7-5nm半導體技術節點研究(2/5)
Internal ID
103-2622-E-002-031
Principal Investigator
Start Date
August 1, 2014
End Date
July 31, 2015
Partner Organizations
前瞻技術產學合作計畫—7-5nm半導體技術節點研究(2/5)
Keywords
微影技術
二維材料
奈米線
能隙工程
分子束磊晶
原子層沉積技術
閘極堆疊結構
界面能態密度
費米能態釘紮
寄生電阻
負電容
陽極氧化
超薄氧化層
量子井
穿隧電晶體
第一原理模擬
非平衡態格林函數
lithography
Patterning
2D materials
nano ribbon
nanowire
band gap engineering
in-situ molecular beam epitaxy
Atomic layer deposition
gate stack
interfacial trap density(Dit)
Fermi level pinning
parasitic series S/D resistance
negative ferroele