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.National Taiwan University / 國立臺灣大學
Project / 研究計畫
先進CMOS元件之增強技術-子計畫四:高遷移率鍺互補式金氧半場效電晶體之應變研究與高介電值材料/金屬閘極整合技術
先進CMOS元件之增強技術-子計畫四:高遷移率鍺互補式金氧半場效電晶體之應變研究與高介電值材料/金屬閘極整合技術
Details
Primary Data
Project title
先進CMOS元件之增強技術-子計畫四:高遷移率鍺互補式金氧半場效電晶體之應變研究與高介電值材料/金屬閘極整合技術
Internal ID
100-2221-E-002-181-MY3
Principal Investigator
CHEE-WEE LIU
Start Date
August 1, 2011
End Date
July 31, 2012
Partner Organizations
National Science and Technology Council