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.National Taiwan University / 國立臺灣大學
Project / 研究計畫
先進CMOS元件及製程研究-子計畫一:適用於低溫基板製程之高品質絕緣膜形成技術(1/3)
先進CMOS元件及製程研究-子計畫一:適用於低溫基板製程之高品質絕緣膜形成技術(1/3)
Details
Primary Data
Project title
先進CMOS元件及製程研究-子計畫一:適用於低溫基板製程之高品質絕緣膜形成技術(1/3)
Internal ID
94-2215-E-002-044-
Principal Investigator
JENN-GWO HWU
Start Date
August 1, 2005
End Date
July 31, 2006
Partner Organizations
National Science and Technology Council