Project title
超越矽互補式金氧半電晶體在三五族與鍺奈米電子的研究(3/3)
Internal ID
98-2120-M-002-013-
Principal Investigator
Start Date
August 1, 2009
End Date
July 31, 2012
Partner Organizations
超越矽互補式金氧半電晶體在三五族與鍺奈米電子的研究(3/3)
Keywords
高介電絕緣體
互補式金氧半電晶體
鍺以及化合物半導體和氧化物間之奈米級界面
分子束磊晶(MBE)
原子層沉積(ALD)
臨場ALD
高解析度X光繞射
高解析度穿隧電子顯微鏡(HR-TEM)
high κ dielectrics
CMOS
Nano-interfaces of oxides with Ge and compound semiconductors
molecular beam epitaxy (MBE)
atomic layer deposition (ALD)
in-situ ALD
high-resolution x-ray diffraction
high-resolution transmission electron microscopy (HR-TEM)