以射頻磁控濺鍍法製備鋰錳氧化物陰極薄膜及其表面改質之研究
Journal
真空科技
Journal Volume
19
Journal Issue
4
Start Page
61
End Page
66
ISSN
1017-091X
Date Issued
2007-04
Author(s)
Abstract
本研究利用射頻磁控濺鍍法沉積鋰離子二次電池之LiMn2O4正極薄膜材料，藉由不同大氣退火及表面離子轟擊處理，以獲致LiMn2O4材料最佳性質的製程與方法。實驗結果顯示，大氣退火熱處理可使沉積LiMn2O4薄膜具有較佳結晶性，若將試片置於壓力於1×10^(-2)Torr以上之純氧氣氛環境中，並於其表面施以電漿離子轟擊，可使薄膜電阻率下降，且將射頻電源功率控制於30W時有最佳電化學性質，其電容量約可達104mAh/g。
Subjects
鋰錳氧化物
射頻電漿處理
LiMn2O4
radio frequency plasma treatment
Type
journal article