提升半導體業氟系廢水處理效能之研究

Date Issued
2004-05-31
Date
2004-05-31
Author(s)
DOI
922622E002008CC3
URI
Abstract
目前工業界以鈣鹽沈澱法作為高濃度含氟廢水的處理單元，但因其需加入過量的鈣鹽 才能得到得較佳的去除率（Buffle et al., 1985; Parthasarathy et al., 1986），造成水中的硬度 大量增加，而若要精確控制鈣鹽的加藥量，則需在進流端裝設氟偵測電極，以掌握進流水 之氟濃度。但由於進流水氟濃度太高，會腐蝕氟偵測電極，因此實廠處理時大多都未裝設。 在無法確定進流水之氟濃度的情形下，只有依經驗值過量加藥以確保出流水氟濃度小於園 區的納管標準。
Subjects
電膠羽浮除法
鈣鹽沈澱法
氟離子
Publisher
臺北市：國立臺灣大學環境工程學研究所
Type
report
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