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College of Engineering / 工學院
Environmental Engineering / 環境工程學研究所
金屬陽離子於二氧化矽/水溶液之界面反應-分子層次之探討
Details
金屬陽離子於二氧化矽/水溶液之界面反應-分子層次之探討
Date Issued
2001-07-31
Date
2001-07-31
Author(s)
駱尚廉
DOI
892211E002077
URI
http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/22057
Abstract
金屬陽離子之傳輸與流佈常受周遭固相介 質之影響，而在固/液界面發生吸附、水解、表 面沈澱等反應。而過去對界面現象之研究已證 實，處於兩相間的交界部份非常薄，最多不過 幾個分子厚;此一事實意味著分子層次的研究 方法，是探討界面反應所必須的工具。因此本 研究以二氧化矽為固相氧化物，探討Al(III)離 子於不同系統pH 值、不同Al(III)濃度下之界 面吸附與水解現象。研究方法除傳統批式實驗 數據、表面錯合吸附模擬外，並加入量子方法 在分子層次對基本熱力學參數之計算，進而定 性並定量描述金屬陽離子在固相表面所表現的 吸附與水解行為。 經CASTEP 量子理論計算後，擷取熱力學 上允許發生之反應型態，並合併這些吸附形式 模擬Al(III)/SiO2(s)系統可得較佳之模擬結果。
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Subjects
金屬陽離子
二氧化矽
界面反應
分子層次
metallic cations
SiO2
interface
reactions
molecular level
Publisher
臺北市：國立臺灣大學環境工程學研究所
Type
report
File(s)
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Name
892211E002077.pdf
Size
430.08 KB
Format
Adobe PDF
Checksum
(MD5):f56ee1a969e5c844348249778c926390
