由石化原料製備深次微米IC工業特用化學品(III)─子計畫六：低介電常數聚醯亞胺之IC化學機械研磨液開發

Date Issued
2001
Date
2001
Author(s)
DOI
20060725120113125277
URI
Publisher
臺北市：國立臺灣大學材料科學與工程學研究所
Type
report

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