凹槽平板之動態反應

Date Issued
2005
Date
2005
Author(s)
歐福全
DOI
zh-TW
URI
Abstract
本文主要在探討凹槽平板受一簡諧張力作用下，平板的動態反應。目的是為了求取動態應力集中係數，並與靜態載重作用下的應力集中係數做比較。 本文的分析方法，首先是先建立當平板不含凹槽時的反應，稱為自由場，接著再建立凹槽存在時所造成的反應，稱為散射場，散射場建立的方法是在上下凹槽的中央處，沿著y方向施加一線波源，而為了要滿足板的邊界條件，需要再建立輔助函數來平衡線波源在板邊界上所產生的應力，則板的動態反應可由自由場加上散射場而得。 散射場所使用的積分方法，是選取一條避開極點的路徑，經過變數變換後即可以求出積分值；最後，利用邊界模式契合法之最小二乘法將待定係數求出之後，全解即可獲得。
Subjects
凹槽
notch
Type
thesis
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Name

ntu-94-R92521204-1.pdf

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