半導體關鍵設備研發(II)─總計畫
Date Issued
1998
Date
1998
Author(s)
范光照
DOI
872218E002002
Abstract
本計劃為國科會整合型研究計畫
「半導體關鍵設備研發」總計畫的第二
年度成果報告, 本年度之報告結合各子
計畫之研究成果。目前已順利完成第二
年度的預期進度,研究成果包括:(1)快
速熱處理機台自動化研究,(2) 0.35mm
或更高技術之單晶圓化學氣相沉積反
應器,(3)半導體電漿製程之模擬與研
製,(4)半導體製程反應器之模擬與研
製。在充分的團隊合作下將順利進展第
三年度進度。
Subjects
半導體設備
快速熱處理機台
熱處理製程
CVD反應器
電漿製程
Publisher
臺北市:國立臺灣大學機械工程學系暨研究所
Type
report
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Name
872218E002002.pdf
Size
136.11 KB
Format
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(MD5):0f3b026f7e519ffc36842735faa99cc1
