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College of Electrical Engineering and Computer Science / 電機資訊學院
Electrical Engineering / 電機工程學系
Slice Shimming Method for Reduction of Susceptibility Artifacts with PatLoc System
Details
Slice Shimming Method for Reduction of Susceptibility Artifacts with PatLoc System
Date Issued
2010
Date
2010
Author(s)
Niu, Hsuan-Chung
URI
http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/254069
Abstract
磁振造影系統主磁場均勻度直接影響影像品質及核磁共振頻譜精確度。由於硬體上面的限制，現今磁場均勻度校正技術無法有效解決磁化率假影。以人腦為例，使用面回訊影像技術產生之腦部額葉與顳葉影像，因其組織與空氣磁化率不一，界面產生巨大磁場變動，導致影像品質因假影產生而無法有效提升。然而，最近幾年區域梯度平行影像技術的發展，磁振造影系統在硬體上有了重大的變革。本論文中將使用在平行影像技術上的區域梯度磁場應用於磁場均勻度校正技術，提出“切面磁場校正技術”，並進行關於應用此技術可行性之探討。在這個研究中，模擬了８張不同高度之人腦腦部切面在不同磁場均勻度校正技術下的核磁共振影像，利用影像所產生相位圖之客觀數據比較其影像品質高低。此外，論文中將利用影像相位圖更進一步產生腦部核磁共振頻譜，以頻譜半高全寬數值當作其精確度標準依據，進而比較不同磁場均勻度校正技術對於磁化率假影改善之程度。研究結果顯示，應用區域梯度磁場，切面磁場校正技術可以提升現有技術無法達到之主磁場均勻度，進而有效改善磁化率假影。
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Subjects
MRI
MRS
Susceptibility Artifact
PatLoc
Type
thesis
File(s)
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Name
ntu-99-R97945049-1.pdf
Size
23.32 KB
Format
Adobe PDF
Checksum
(MD5):41eb2e96154e455f9d9f4f35b7ffa5a3
