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College of Electrical Engineering and Computer Science / 電機資訊學院
Electrical Engineering / 電機工程學系
以液相沉積法將雜質含入矽氧化層技術之研發
Details
以液相沉積法將雜質含入矽氧化層技術之研發
Date Issued
1997
Date
1997
Author(s)
胡振國
DOI
20060725115639859996
URI
http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/7237
Publisher
臺北市:國立臺灣大學電機工程學系暨研究所
Type
report