研發、專利和知識外溢(II-I)
Date Issued
2004-09-30
Date
2004-09-30
Author(s)
DOI
922415H002009
Abstract
本文以1990 年至1999 年期間世界各國在美國所獲專利資料,以及1981 年至1998 年期
間的專利引證資料,應用專利引證機率模型,來分析美國、日本、德國、台灣和南韓等五
國電子業專利引證這五國專利所產生的知識外溢現象。本文主要發現為:(1)除了日本外,
各國電子業專利引證美國專利的次數比例均為最高,惟此項比例有逐年減少的趨勢。反
之,各國電子業專利引證日本專利的比例則有明顯增加的趨勢。各先進國家電子業專利引
證台韓專利的比例非常低,都在2%以下;(2) 日本、德國、南韓和台灣電子業專利引證
日本專利的平均機率均高於引證美國專利,其中台韓更為明顯。儘管各國電子業競相引證
日本專利,日本電子業專利引證他國專利的機率普遍偏低。因此,本文之實證結果並未出
現如過去文獻對G5 國家的研究所得出的國與國間的知識流動呈雙向外溢,而是呈現由科
技實力較強的一方流向較弱的一方。類似的單向主導現象也出現在美國v.s.德國。(3) 在
控制其他變數不變之下,南韓及台灣的電子業專利引證日本和美國專利的速度均較美、
日、德來得快速,這可能反映了技術後進者急欲迎頭趕上先進者的強烈企圖心。此外,台、
韓電子業專利還引證一些老舊但技術性很關鍵的先進國家專利,這個技術落後國的學習門
檻現象,是過去相關文獻從未發現過的。
Subjects
專利引證
電子業
國際知識外溢
Publisher
臺北市:國立臺灣大學經濟學系暨研究所
Type
report
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