Model-based proximity effect correction for helium ion beam lithography

Journal
Advanced Lithography 2018 -- Proc. SPIE 10584 Novel Patterning Technologies 2018
Date Issued
2018
Author(s)
Chien-Lin Lee
Sheng-Wei Chien
Kuen-Yu Tsai*
DOI
URI
Type
conference paper

臺大位居世界頂尖大學之列，為永久珍藏及向國際展現本校豐碩的研究成果及學術能量，圖書館整合機構典藏（NTUR）與學術庫（AH）不同功能平台，成為臺大學術典藏NTU scholars。期能整合研究能量、促進交流合作、保存學術產出、推廣研究成果。

To permanently archive and promote researcher profiles and scholarly works, Library integrates the services of “NTU Repository” with “Academic Hub” to form NTU Scholars.

總館學科館員 (Main Library)
醫學圖書館學科館員 (Medical Library)
社會科學院辜振甫紀念圖書館學科館員 (Social Sciences Library)

開放取用是從使用者角度提升資訊取用性的社會運動，應用在學術研究上是透過將研究著作公開供使用者自由取閱，以促進學術傳播及因應期刊訂購費用逐年攀升。同時可加速研究發展、提升研究影響力，NTU Scholars即為本校的開放取用典藏（OA Archive）平台。（點選深入了解OA）

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