Method for Compensating Proximity Effect of Particle Beam Lithography Process (粒子束微影程序鄰近效應之補償方法)

Date Issued
2014-05
Author(s)
Kuen-Yu Tsai
Chun-Hung Liu
Chooi-Wan Ng
Pei-Lin Tien
URI
Type
patent

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To permanently archive and promote researcher profiles and scholarly works, Library integrates the services of “NTU Repository” with “Academic Hub” to form NTU Scholars.

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