The Study and Development of Particle Manipulating Technique

Date Issued
2004
Date
2004
Author(s)
Lin, Chien-Hung
DOI
zh-TW
URI
Abstract
本研究利用微機電製程方式成本s作出微粒子操控晶片，整個流程僅需要兩道光罩（微電極陣列晶片與微流道母模各一道光罩）即可完成晶片製作。本粒子操控術操控機制是利用介電泳原理，當一顆電中性微粒處於非均勻電場中，會因電場作用而產生偏極化現象，再由此偏極化現象產生一誘導偶極矩，此偶極矩與電場作用產生介電泳力，粒子則因介電泳力的不同而移動到空間中不同位置。研究中晶片設計首創「完全零焊點」與「隨插即用」的設計方式，利於後續研究時快速、簡便之特性。在基本特性試驗方面，本實驗採用粒徑10μm的polymer粒子，在溶液導電度為0.02mS/㎝的條件下進行操控，實驗顯示在操控頻率為50KHz~100 KHz時粒子移動速度最快，此外，粒子移動速度與電壓二次方成正比，粒子速度亦與同相位電極間距成反比，可與理論互相驗證。在弁銃}發方面，吾人設計之放射狀電極可以將粒子集中定位在圓中心點，而首創之方陣狀電極設計則能使粒子做旋轉運動，此弁鄍i增加流場中的擾動，提高粒子或流體混合的機率。
Subjects
粒子操控
微機電製程
介電泳
MEMS
Particle Manipulating Technique
dielectrophre
Type
thesis
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