圓柱型微反應器之滯留時間分佈
Date Issued
2005
Date
2005
Author(s)
韋子璿
DOI
zh-TW
Abstract
本文分析及推導圓形微管中電滲透流的滯留時間函數分佈。微管表面維持固定表面電位,以外加電場驅動反離子造成管中流動。藉由探討無因次電雙層厚度、外加軸向電場、外加軸向壓降等參數,探討電滲透流速度及滯留時間分佈函數的變化。本文目的在於深入瞭解電動力在微反應器中的應用,並提供反應器設計上的資訊,且滯留時間函數分佈對分析反應轉化率有極大幫助。數值模擬結果顯示電雙層厚度、外加電場及壓降越大會使電滲透流速度越快,縮短滯留時間,並使滯留時間分佈圖形改變。使用laminar flow及plug flow做為電雙層極厚及極薄時的類比,檢驗此兩種特殊情況下的滯留時間函數分佈,並推測極限值。
Subjects
滯留時間分佈
圓柱型微反應器
電滲透流
Residence time distribution
electroosmotic flow
cylindrical microreactor
Type
thesis
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Name
ntu-94-R91524084-1.pdf
Size
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Format
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Checksum
(MD5):40d27a37267dd5a036ca12dd598c73ae
