https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/119822
標題: | Low resistivity electron transport material used for black layer applications | 作者: | Chuang, Kai-Hsiang Hsiao, Chih-Hung Lee, Jiun-Haw Leung, Man-Kit |
公開日期: | 2005 | 期: | 685 | 起(迄)頁: | - | 來源出版物: | International Display Manufacturing Conference and Exhibition (IDMC'05) | URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/236784 |
顯示於: | 光電工程學研究所 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。