https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/150348
標題: | 快速熱氧化層製程對厚度均勻度及電特性影響之研究 | 作者: | 胡振國 | 公開日期: | 1999 | 出版社: | 臺北市:國立臺灣大學電機工程學系暨研究所 | URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/7438 | 其他識別: | 20060725115824625965 | Rights: | 國立臺灣大學電機工程學系暨研究所 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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