https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/153866
標題: | Improvement in the Interface Property of Thin Gate Oxide by Successive Irradiation-Then-Anneal Treatments | 作者: | Hwu, Jenn-Gwo | 公開日期: | 1990 | URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/153922 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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