https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/174208
標題: | 先進CMOS元件及製程研究-子計畫一:適用於低溫基板製程之高品質絕緣膜形成技術(2/3) | 作者: | 胡振國 | 公開日期: | 31-七月-2008 | URI: | http://ntur.lib.ntu.edu.tw//handle/246246/78802 | Rights: | 國立臺灣大學電子工程學研究所 |
顯示於: | 電子工程學研究所 |
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