https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/292415
標題: | Improvement in oxide thickness uniformity by repeated spike oxidation | 作者: | Hong, C.-C. Lee, C.-Y. Hsieh, Y.-L. Liu, C.-C. Fong, I.-K. Hwu, J.-G. JENN-GWO HWU |
公開日期: | 2001 | 卷: | 14 | 期: | 3 | 起(迄)頁: | 227-230 | 來源出版物: | IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-0035423123&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/292415 |
DOI: | 10.1109/66.939819 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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