https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/296934
標題: | Reduction in leakage current of low-temperature thin-gate oxide by repeated spike oxidation technique | 作者: | Hong, C.-C. Chang, C.-Y. Lee, C.-Y. Hwu, J.-G. JENN-GWO HWU |
公開日期: | 2002 | 卷: | 23 | 期: | 1 | 起(迄)頁: | 28-30 | 來源出版物: | IEEE Electron Device Letters | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-0036165638&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/296934 |
DOI: | 10.1109/55.974802 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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