https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/299277
標題: | A Bilayer Film Design as Bottom Antireflective Coating for KrF, ArF and F<sub>2</sub> Lithographies | 作者: | Y. R. Lu C. H. Lin L. A. Wang LON A. WANG |
公開日期: | 一月-2002 | 來源出版物: | Optics and Photonics Taiwan'02 | URI: | http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/299277 |
顯示於: | 光電工程學研究所 |
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