https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/301811
標題: | Using anodization to oxidize ultrathin aluminum film for high-k gate dielectric application | 作者: | JENN-GWO HWU | 公開日期: | 2003 | 卷: | 150 | 期: | 7 | 來源出版物: | Journal of the Electrochemical Society | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-0038783313&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/301811 |
DOI: | 10.1149/1.1577545 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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