https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/302764
標題: | Removal of GaAs surface contaminants using H2 electron cyclotron resonance plasma treatment followed by Cl2 chemical etching | 作者: | Hong, M Freund, RS Choquette, KD Luftman, HS Mannaerts, JP Wetzel, RC MINGHWEI HONG |
公開日期: | 1993 | 卷: | 62 | 期: | 21 | 起(迄)頁: | 2658-2660 | 來源出版物: | Applied Physics Letters | URI: | http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/302764 |
顯示於: | 應用物理研究所 |
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