https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/304320
標題: | A Tri-layer Film Design as Bottom Antireflective Coating for KrF, ArF and F2 Lithographies | 作者: | W. C. Cheng L. A. Wang LON A. WANG |
公開日期: | 一月-2003 | 起(迄)頁: | 242-243 | 來源出版物: | Micro- and Nano-Engineering | URI: | http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/304320 |
顯示於: | 光電工程學研究所 |
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