https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/322524
標題: | CF4 plasma treatment for preparing gas diffusion layers in membrane electrode assemblies | 作者: | Pai, Y.-H. Ke, J.-H. Huang, H.-F. Lee, C.-M. Zen, J.-M. Shieu, F.-S. HSIN-FU HUANG |
公開日期: | 2006 | 卷: | 161 | 期: | 1 | 起(迄)頁: | 275-281 | 來源出版物: | Journal of Power Sources | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-33748979863&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/322524 |
DOI: | 10.1016/j.jpowsour.2006.03.066 |
顯示於: | 機械工程學系 |
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