https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/323857
標題: | Use of Si O 2 nanoparticles as etch mask to generate Si nanorods by reactive ion etch | 作者: | Liang, E.-Z. Huang, C.-J. Lin, C.-F. CHING-FUH LIN |
公開日期: | 2006 | 卷: | 24 | 期: | 2 | 起(迄)頁: | 599-603 | 來源出版物: | Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-33645519575&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/323857 |
DOI: | 10.1116/1.2172251 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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