https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/329951
標題: | Effect of postoxidation annealing on the reliability of rapid thermal thin gate oxides | 作者: | JENN-GWO HWU | 公開日期: | 1997 | 卷: | 18 | 期: | 1 | 起(迄)頁: | 1-3 | 來源出版物: | IEEE Electron Device Letters | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-0030784336&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/329951 |
DOI: | 10.1109/55.553057 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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