https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/332400
標題: | Low temperature chemical vapor deposition growth of β-SiC on (100) Si using methylsilane and device characteristics | 作者: | Liu, C.W. Sturm, J.C. CHEE-WEE LIU |
公開日期: | 1997 | 卷: | 82 | 期: | 9 | 起(迄)頁: | 4558-4565 | 來源出版物: | Journal of Applied Physics | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-0001627677&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/332400 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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