https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/338631
標題: | Rapid thermal postoxidation anneal engineering in thin gate oxides with al gates | 作者: | Chen, C.-Y. Jeng, M.-J. Hwu, J.-G. JENN-GWO HWU |
公開日期: | 1998 | 卷: | 45 | 期: | 1 | 起(迄)頁: | 247-253 | 來源出版物: | IEEE Transactions on Electron Devices | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-0031647284&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/338631 |
DOI: | 10.1109/16.658838 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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