https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/340107
標題: | Oxide scalability in Al [sub 2] O [sub 3]/Ga [sub 2] O [sub 3](Gd [sub 2] O [sub 3])/In [sub 0.20] Ga [sub 0.80] As/GaAs heterostructures | 作者: | Shiu, KH Chiang, CH Lee, YJ Lee, WC Chang, P Tung, LT Hong, M Kwo, J Tsai, W MINGHWEI HONG |
公開日期: | 2008 | 卷: | 26 | 起(迄)頁: | 1132 | 來源出版物: | Journal of Vacuum Science Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures | URI: | http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/340107 |
顯示於: | 應用物理研究所 |
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