https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/340150
標題: | Oxide scalability in Al2O3/Ga2O3 (Gd2O3)/In0. 20Ga0. 80As/GaAs heterostructures | 作者: | Shiu, KH Chiang, CH Lee, YJ Lee, WC Chang, P Tung, LT Hong, M Kwo, J Tsai, W MINGHWEI HONG |
公開日期: | 2008 | 卷: | 26 | 期: | 3 | 起(迄)頁: | 1132-1135 | 來源出版物: | Journal of Vacuum Science & Technology B | URI: | http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/340150 |
顯示於: | 應用物理研究所 |
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