https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/340174
標題: | 1 nm equivalent oxide thickness in Ga 2 O 3 (Gd 2 O 3)/In 0.2 Ga 0.8 As metal-oxide-semiconductor capacitors | 作者: | Shiu, KH Chiang, TH Chang, P Tung, LT Hong, M Kwo, J Tsai, W MINGHWEI HONG |
公開日期: | 2008 | 卷: | 92 | 期: | 17 | 來源出版物: | Applied Physics Letters | URI: | http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/340174 |
顯示於: | 應用物理研究所 |
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