https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/348055
標題: | Chemical mechanical polishing of low-dielectric-constant polymers: hydrogen silsesquioxane and methyl silsesquioxane | 作者: | Chen, W.-C. Lin, S.-C. Dai, B.-T. Tsai, M.-S. WEN-CHANG CHEN |
公開日期: | 1999 | 卷: | 146 | 期: | 8 | 起(迄)頁: | 3004-3008 | 來源出版物: | Journal of the Electrochemical Society | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-0032592416&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/348055 |
DOI: | 10.1149/1.1392043 |
顯示於: | 化學工程學系 |
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