https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/352121
標題: | Selection of Gaussian-beam and raster-scan parameters in electron-beam direct-write lithography considering device patterning and performance variability | 作者: | Hoi-Tou Ng Chun-Hung Liu Hsing-Hong Chen Kuen-Yu Tsai KUEN-YU TSAI |
公開日期: | 二月-2009 | 起(迄)頁: | 7271-22 | 來源出版物: | Advanced Lithography 2009 | URI: | http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/352121 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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