https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/352328
標題: | Optimization of ECR-PECVD Grown HMDSO Films for The Bottom Antireflective Coating Layer in ArF Lithography | 作者: | L. A. Wang H. L. Chen LON A. WANG |
公開日期: | 一月-1999 | 起(迄)頁: | 49-50 | 來源出版物: | 43th EIPBN | URI: | http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/352328 |
顯示於: | 光電工程學研究所 |
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