https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/352329
標題: | Simulation on a New Reflection Type Attenuated Phase Shifting Mask for Extreme Ultraviolet Lithography | 作者: | H. L. Chen L. A. Wang LON A. WANG |
公開日期: | 一月-1999 | 起(迄)頁: | 100 | 來源出版物: | 24th SPIE International Symposium on Microlithography | URI: | http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/352329 |
顯示於: | 光電工程學研究所 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。