https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/358157
標題: | Template-mask design methodology for double patterning technology | 作者: | Hsu, C.-H. Chang, Y.-W. Nassif, S.R. YAO-WEN CHANG |
公開日期: | 2010 | 起(迄)頁: | 107-111 | 來源出版物: | IEEE/ACM International Conference on Computer-Aided Design | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-78650912407&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/358157 |
DOI: | 10.1109/ICCAD.2010.5654288 |
顯示於: | 電子工程學研究所 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。