https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/371830
標題: | Effective passivation of In0. 2Ga0. 8As by HfO2 surpassing Al2O3 via in-situ atomic layer deposition | 作者: | Chang, YH Lin, CA Liu, YT Chiang, TH Lin, HY Huang, ML Lin, TD Pi, TW Kwo, J Hong, M MINGHWEI HONG |
公開日期: | 2012 | 卷: | 101 | 期: | 17 | 起(迄)頁: | 172104 | 來源出版物: | Applied Physics Letters | URI: | http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/371830 |
顯示於: | 應用物理研究所 |
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