https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/376992
標題: | Influence of low temperature oxidation and nitrogen passivation on the MOS interface of C-face 4H-SiC | 作者: | Lee, K.-Y. Chang, Y.-H. Huang, Y.-H. Wu, S.-D. Chung, C.Y. Huang, C.-F. Lee, T.-C. KUNG-YEN LEE |
公開日期: | 2013 | 卷: | 282 | 起(迄)頁: | 126-132 | 來源出版物: | Applied Surface Science | URI: | http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-84880927496&partnerID=MN8TOARS http://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/376992 |
DOI: | 10.1016/j.apsusc.2013.05.080 |
顯示於: | 工程科學及海洋工程學系 |
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