https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/404528
標題: | Improved Si0.5Ge0.5/Si interface quality achieved by the process of low energy hydrogen plasma cleaning and investigation of interface quality with positron annihilation spectroscopy | 作者: | M. H.Liao C.-H. Chen |
公開日期: | 2013 | 卷: | 3 | 期: | 4 | 起(迄)頁: | 42108 | 來源出版物: | AIP Advances | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/404528 |
顯示於: | 電機工程學系 |
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