https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443408
標題: | Energy-band parameters of atomic layer deposited Al2O 3 and HfO2 on InxGa1-xAs | 作者: | Huang, M.L. Chang, Y.C. Chang, Y.H. Lin, T.D. Kwo, J. Hong, M. MINGHWEI HONG |
公開日期: | 2009 | 卷: | 94 | 期: | 5 | 來源出版物: | Applied Physics Letters | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443408 | DOI: | 10.1063/1.3078399 |
顯示於: | 物理學系 |
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