https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443411
標題: | Achieving a low interfacial density of states in atomic layer deposited Al<inf>2</inf> O<inf>3</inf> on In<inf>0.53</inf> Ga<inf>0.47</inf> As | 作者: | Chiu, H.C. Tung, L.T. Chang, Y.H. Lee, Y.J. Chang, C.C. Kwo, J. Hong, M. MINGHWEI HONG |
公開日期: | 2008 | 卷: | 93 | 期: | 20 | 來源出版物: | Applied Physics Letters | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443411 | DOI: | 10.1063/1.3027476 |
顯示於: | 物理學系 |
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