https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443421
標題: | High-quality nanothick single-crystal Y2 O3 films epitaxially grown on Si (111): Growth and structural characteristics | 作者: | Lee, Y.J. Lee, W.C. Nieh, C.W. Yang, Z.K. Kortan, A.R. Hong, M. Kwo, J. Hsu, C.-H. MINGHWEI HONG |
公開日期: | 2008 | 卷: | 26 | 期: | 3 | 起(迄)頁: | 1124-1127 | 來源出版物: | Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443421 | DOI: | 10.1116/1.2889387 |
顯示於: | 物理學系 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。