https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443447
標題: | Effect of Al incorporation in the thermal stability of atomic-layer- deposited HfO<inf>2</inf> for gate dielectric applications | 作者: | Chiou, Y.-K. Chang, C.-H. Wang, C.-C. Lee, K.-Y. Wu, T.-B. Kwo, R. Hong, M. MINGHWEI HONG |
公開日期: | 2007 | 卷: | 154 | 期: | 4 | 起(迄)頁: | G99-G102 | 來源出版物: | Journal of the Electrochemical Society | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443447 | DOI: | 10.1149/1.2472562 |
顯示於: | 物理學系 |
在 IR 系統中的文件,除了特別指名其著作權條款之外,均受到著作權保護,並且保留所有的權利。