https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443540
標題: | Influence of in situ applied stress during thermal oxidation of (111)Si on P-b interface defects | 作者: | Stesmans, A. Pierreux, D. Jaccodine, R. J. Lin, M. T. Delph, T. J. MINN-TSONG LIN |
公開日期: | 2003 | 卷: | 82 | 期: | 18 | 起(迄)頁: | 3038-3040 | 來源出版物: | Applied Physics Letters | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/443540 | ISSN: | 0003-6951 | DOI: | 10.1063/1.1555277 |
顯示於: | 物理學系 |
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