https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/447967
標題: | Improved Si<inf>0.5</inf>Ge<inf>0.5</inf>/Si interface quality achieved by the process of low energy hydrogen plasma cleaning and investigation of interface quality with positron annihilation spectroscopy | 作者: | Liao, M.-H. Chen, C.-H. MING-HAN LIAO |
公開日期: | 2013 | 卷: | 3 | 期: | 4 | 來源出版物: | AIP Advances | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/447967 | DOI: | 10.1063/1.4801933 |
顯示於: | 機械工程學系 |
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