https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/451905
標題: | Dual layer photoresist complimentary lithography applied on sapphire substrate for producing submicron patterns | 作者: | Chang, C.-M. Chiang, D. Shiao, M.-H. Yang, C.-T. Huang, M.-J. Cheng, C.-T. WEN-JENG HSUEH |
公開日期: | 2013 | 卷: | 19 | 期: | 11 | 起(迄)頁: | 1745-1751 | 來源出版物: | Microsystem Technologies | URI: | https://scholars.lib.ntu.edu.tw/handle/123456789/451905 | DOI: | 10.1007/s00542-013-1881-1 |
顯示於: | 工程科學及海洋工程學系 |
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